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虽然弱酸性,但浓缩过程中的电离程度大于稀有天气,并且不同于常见的弱电解质。
它具有很强的腐蚀性,会对牙齿和骨骼造成严重损害。
对硅化合物有很强的腐蚀性。
它应存放在封闭的塑料瓶中。
它是通过将氟基气体(F)溶解在水中而获得的。
它用于蚀刻玻璃,去除铸件中的残留砂,控制发酵,电解抛光,并去除半导体晶片(与HNO 3混合)的腐蚀。
氢氟酸不能在水中完全电离,因为氢和氟原子键合的能力相对较强。
氢氟酸可以溶解许多不能被其他酸溶解的玻璃(二氧化硅),制备四氟化硅气体的反应式如下。SiO(s)+ 4HF(aq)→SiF 4应储存在塑料中(理论上,在Teflon容器中),装有蜡的容器或铅中。
氢氟酸不能减少。
如果您想长期存放,您不仅需要密封容器,还需要尽可能疏散。
工业过程:通过在500℃下用氟化钾加热来工业制备氢氟酸,用于热解或用萤石(氟化钙CaF 2)和浓硫酸在700℃下加热。。
KHF 2-(500°C)→KF + HFCaF 2 + H 2 SO 4(浓缩)→(加热)2HF + CaSO 4这样收集的氟化氢通常含有水,硅和硫化合物有。
此后,可以通过蒸馏等纯化氟化氢。
该反应产生的蒸汽是氟化氢,硫酸和各种其它副产物的混合物。
然后可以通过蒸馏纯化氟化氢。
氟气与氢气混合并立即引爆产生氟化氢。F(g)+ H(g)= 2HF(g)